1樓：盜王之盜
pvd電鍍是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
pvd技術出現於二十世紀七十年代末，製備的薄膜具有高硬度、低摩擦係數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 cvd工藝相比，pvd工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密複雜刀具的塗層； pvd工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。
目前pvd塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的tin發展為tic、ti**、zrn、crn、mos2、tialn、tial**、tin-aln、**x、dlc和ta－c等多元複合塗層。
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜效能更加優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(fca )配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的巨集觀粒子、離子團過濾乾淨，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒， 因此製備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕效能好，與機體的結合力很強。
磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
離子束dlc：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。
碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得dlc膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料汙染所帶來的缺陷降至最小。
2樓：樑丘北嘉悟昕
pvd跟電鍍是一個意思的，就是在表面電鍍一層，要玫瑰金就電鍍玫瑰金的，要**就電鍍**的。一般來說電鍍的好的。顏色儲存就好些，不容易掉色。
鍍厚金的更持久些，也有包金的。包金的一般不是很容易掉色的。
pvd與電鍍的區別是什麼？
3樓：匿名使用者
pvd基本方法:真空蒸發、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。
電鍍(electroplating)就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料製件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化(如鏽蝕)，提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進美觀等作用。
pvd:物理氣相沉積:指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。
它的作用是可以使某些有特殊效能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴塗在效能較低的母體上，使得母體具有更好的效能。 pvd基本方法:真空蒸發、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。
pvd技術出現於，製備的薄膜具有高硬度、低摩擦係數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與cvd工藝相比，pvd工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響;薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密複雜刀具的塗層;pvd工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。
當前pvd塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的tin發展為tic、ti**、zrn、crn、mos2、tialn、tial**、tin-aln、**x、dlc和ta-c等多元複合塗層。
電鍍：電鍍時，鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的工件做陰極，鍍層金屬的陽離子在待鍍工件表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。
電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質或尺寸。電鍍能增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導電性、光滑性、耐熱性和表面美觀。
4樓：北京馬甸
用經常擦嗎，會掉嗎？
5樓：匿名使用者
我也不知道啊啊啊啊！嗯ヽ(○^㉨^)ﾉ♪
pvd與電鍍的區別是什麼？
6樓：匿名使用者
pvd基本方法:真空蒸發、濺射 、離子鍍
(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。
電鍍(electroplating)就是利用電解原理在某些金屬表面上鍍上一薄層其它金屬或合金的過程，是利用電解作用使金屬或其它材料製件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化(如鏽蝕)，提高耐磨性、導電性、反光性、抗腐蝕性(硫酸銅等)及增進美觀等作用。
pvd:物理氣相沉積:指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。
它的作用是可以使某些有特殊效能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴塗在效能較低的母體上，使得母體具有更好的效能。 pvd基本方法:真空蒸發、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。
pvd技術出現於，製備的薄膜具有高硬度、低摩擦係數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與cvd工藝相比，pvd工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響;薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密複雜刀具的塗層;pvd工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。
當前pvd塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的tin發展為tic、ti**、zrn、crn、mos2、tialn、tial**、tin-aln、**x、dlc和ta-c等多元複合塗層。
電鍍：電鍍時，鍍層金屬或其他不溶性材料做陽極，待鍍的工件做陰極，鍍層金屬的陽離子在待鍍工件表面被還原形成鍍層。為排除其它陽離子的干擾，且使鍍層均勻、牢固，需用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。
電鍍的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表面性質或尺寸。電鍍能增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導電性、光滑性、耐熱性和表面美觀。
7樓：優普萊等離子體
pvd鍍膜和水電鍍，較早出廠的汽車大部分輪都是水電鍍的，pvd鍍膜的利潤高，汙染高(首要身分是重鑫屬附著輪轂內中，故此，出於環保起因水電鍍的輪轂是不能出入口的)、且只能電鍍單一的色調「電鍍白」。pvd鍍膜並且另有個弊病，假設有1個位置出現起皮、掉皮的話，就會1塊1塊的接著起皮、掉皮，pvd鍍膜這種掉上去的重金屬皮不復雜被糜爛，對環境也形成嚴重的汙染。
pvd鍍膜採用外洋最頂尖的粉末噴塗技術、磁控pvd鍍膜技術停止加工生產電鍍產品，pvd鍍膜該生產技術的特性是取代了保守水電鍍的高汙染、高利潤編制，以零汙染、低利潤、pvd鍍膜高功用的生產模式來創造產品的高附加值，pvd鍍膜產品技術先進、美觀奢華、綠色環保、陳本低廉、功能精巧，pvd鍍膜已被國內外市場普及承認。
pvd鍍膜能夠做到多色調選擇，還能夠同1只輪轂出現一種以上色調的成果，pvd鍍膜取代了水電鍍的單一色調的弊病。pvd鍍膜即使是不警惕磕碰或抵達1定年限，pvd鍍膜也不會出現像水電鍍輪一樣的掉皮氣象。
-------------優普萊等離子體專業從事等離子體研發。
8樓：匿名使用者
pvd是物理氣相沉積，也是電鍍中的一種，即是真空電鍍的工藝之一。
9樓：
vd簡介
pvd是英文physical vapor deposition（物理氣相沉積）的縮寫，是指在真空條件下，採用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發並使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。
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pvd技術的發展
pvd技術出現於二十世紀七十年代末，製備的薄膜具有高硬度、低摩擦係數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。最初在高速鋼刀具領域的成功應用引起了世界各國製造業的高度重視，人們在開發高效能、高可靠性塗層裝置的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的塗層應用研究。與 cvd工藝相比，pvd工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態為壓應力，更適於對硬質合金精密複雜刀具的塗層； pvd工藝對環境無不利影響，符合現代綠色製造的發展方向。
目前pvd塗層技術已普遍應用於硬質合金立銑刀、鑽頭、階梯鑽、油孔鑽、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的塗層處理。
pvd技術不僅提高了薄膜與刀具基體材料的結合強度，塗層成分也由第一代的tin發展為tic、ti**、zrn、crn、mos2、tialn、tial**、tin-aln、**x、dlc和ta－c等多元複合塗層。
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塗層的pvd技術
增強型磁控陰極弧：陰極弧技術是在真空條件下，通過低電壓和高電流將靶材離化成離子狀態，從而完成薄膜材料的沉積。增強型磁控陰極弧利用電磁場的共同作用，將靶材表面的電弧加以有效地控制，使材料的離化率更高，薄膜效能更加優異。
過濾陰極弧：過濾陰極電弧(fca )配有高效的電磁過濾系統，可將離子源產生的等離子體中的巨集觀粒子、離子團過濾乾淨，經過磁過濾後沉積粒子的離化率為100%，並且可以過濾掉大顆粒， 因此製備的薄膜非常緻密和平整光滑，具有抗腐蝕效能好，與機體的結合力很強。
磁控濺射：在真空環境下，通過電壓和磁場的共同作用，以被離化的惰性氣體離子對靶材進行轟擊，致使靶材以離子、原子或分子的形式被彈出並沉積在基件上形成薄膜。根據使用的電離電源的不同，導體和非導體材料均可作為靶材被濺射。
離子束dlc：碳氫氣體在離子源中被離化成等離子體，在電磁場的共同作用下，離子源釋放出碳離子。離子束能量通過調整加在等離子體上的電壓來控制。
碳氫離子束被引到基片上，沉積速度與離子電流密度成正比。星弧塗層的離子束源採用高電壓，因而離子能量更大，使得薄膜與基片結合力很好；離子電流更大，使得dlc膜的沉積速度更快。離子束技術的主要優點在於可沉積超薄及多層結構，工藝控制精度可達幾個埃，並可將工藝過程中的顆料汙染所帶來的缺陷降至最小。
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補充物理氣向沉積技術 * pvd 介紹 物理氣相沉積具有金屬汽化的特點，
與不同的氣體發應形成一種薄膜塗層。今天所使用的大多數 pvd 方法是電弧和濺射沉積塗層。這兩種過程需要在高度真空條件下進行。
ionbond 陰極電弧 pvd 塗層技術在 20 世紀 70 年代後期由前蘇聯發明，如今，絕大多數的刀模具塗層使用電弧沉積技術。
工藝溫度
典型的 pvd 塗層加工溫度在 250 ℃— 450 ℃之間，但在有些情況下依據應用領域和塗層的質量， pvd 塗層溫度可低於 70 ℃或高於 600 ℃進行塗層。
塗層適用的典型零件
pvd 適合對絕大多數刀具模具和部件進行沉積塗層，應用領域包括刀具和成型模具，耐磨部件，醫療裝置和裝飾產品。
材料包括鋼質，硬質合金和經電鍍的塑料。
典型塗層型別
塗層型別有 tin, altin,tialn,crn,cr**,ti** 和 zrn, 複合塗層包括 tialyn 或 w — c ： h/dlc
塗層厚度一般 2~5um ，但在有些情況下，塗層薄至 0.5um , 厚至 15um裝載容量。
塗層種類和厚度決定工藝時間，一般工藝時間為 3~6 小時。
加工過程優點
適合多種材質，塗層多樣化
減少工藝時間，提高生產率
較低的塗層溫度，零件尺寸變形小
對工藝環境無汙染
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